eng
Выпуск #2/2023
М. А. Богачев, Д. Д. Васильев, К. М. Моисеев, М. В. Назаренко
Обработка оптических кристаллов и светодиодов в плазме тлеющего разряда
Обработка оптических кристаллов и светодиодов в плазме тлеющего разряда
Просмотры: 90
DOI: 10.22184/1993-7296.FRos.2023.17.2.108.112
Обработка в плазме тлеющего разряда все активнее применяется для очистки поверхностей материалов от загрязнений, уменьшения шероховатости поверхности, повышения поверхностной энергии и модификации поверхности. В статье приведены результаты обработки в плазме высокочастотного и низкочастотного газового разряда в установке плазменной обработки MPC RF‑12 дисков оптических кристаллов и кассет твердотельных светодиодов. Оценено влияние параметров и режимов плазменной обработки, а именно мощности, времени и типа рабочего газа, на качество обработки. Показано, что плазменная обработка является мощным инструментом влияния на свойства поверхности оптических кристаллов, эффективна для удаления оксидных слоев металлов и безопасна для клеевых соединений кристаллов с основанием.
Теги: cleaning of optical elements low-temperature pulsed plasma optical crystals plasma surface treatment solid-state leds низкотемпературная импульсная плазма оптические кристаллы очистка оптических элементов плазменная обработка поверхности твердотельные светодиоды
Подпишитесь на журнал, чтобы прочитать полную версию статьи.
Обработка в плазме тлеющего разряда все активнее применяется для очистки поверхностей материалов от загрязнений, уменьшения шероховатости поверхности, повышения поверхностной энергии и модификации поверхности. В статье приведены результаты обработки в плазме высокочастотного и низкочастотного газового разряда в установке плазменной обработки MPC RF‑12 дисков оптических кристаллов и кассет твердотельных светодиодов. Оценено влияние параметров и режимов плазменной обработки, а именно мощности, времени и типа рабочего газа, на качество обработки. Показано, что плазменная обработка является мощным инструментом влияния на свойства поверхности оптических кристаллов, эффективна для удаления оксидных слоев металлов и безопасна для клеевых соединений кристаллов с основанием.
Теги: cleaning of optical elements low-temperature pulsed plasma optical crystals plasma surface treatment solid-state leds низкотемпературная импульсная плазма оптические кристаллы очистка оптических элементов плазменная обработка поверхности твердотельные светодиоды
Подпишитесь на журнал, чтобы прочитать полную версию статьи.
Отзывы читателей
