Обработка оптических кристаллов и светодиодов в плазме тлеющего разряда
Обработка в плазме тлеющего разряда все активнее применяется для очистки поверхностей материалов от загрязнений, уменьшения шероховатости поверхности, повышения поверхностной энергии и модификации поверхности. В статье приведены результаты обработки в плазме высокочастотного и низкочастотного газового разряда в установке плазменной обработки MPC RF‑12 дисков оптических кристаллов и кассет твердотельных светодиодов. Оценено влияние параметров и режимов плазменной обработки, а именно мощности, времени и типа рабочего газа, на качество обработки. Показано, что плазменная обработка является мощным инструментом влияния на свойства поверхности оптических кристаллов, эффективна для удаления оксидных слоев металлов и безопасна для клеевых соединений кристаллов с основанием.
Теги: cleaning of optical elements low-temperature pulsed plasma optical crystals plasma surface treatment solid-state leds низкотемпературная импульсная плазма оптические кристаллы очистка оптических элементов плазменная обработка поверхности твердотельные светодиоды
Подпишитесь на журнал, чтобы прочитать полную версию статьи.