eng
Выпуск #4/2022
С. В. Сидорова, К. М. Моисеев, Д. Д. Васильев, М. В. Назаренко, И. В. Михайлова
Плазменная обработка поверхностей материалов для задач фотоники
Плазменная обработка поверхностей материалов для задач фотоники
Просмотры: 384
DOI: 10.22184/1993-7296.FRos.2022.16.4.288.295
Плазменная обработки является мощным инструментом для очистки поверхностей материалов от загрязнений, уменьшения шероховатости поверхности, повышения поверхностной энергии и модификации поверхности. Использование установок плазменной обработки в цепочке технологического оборудования является общемировой тенденций. В статье приведены результаты обработки в плазме высокочастотного газового разряда в установке плазменной обработки MPC RF‑12 стеклянных подложек, используемых в изделиях фотоники. Исследовано влияние параметров и режимов плазменной обработки, а именно мощности и времени, на качество обработки, определяемое углом смачивания. Показано, что в некоторых случаях можно достичь сходных результатов при разном соотношении параметров плазменной обработки.
Теги: cleaning of optical elements low-temperature pulsed plasma plasma surface treatment technology for manufacturing optical components низкотемпературная импульсная плазма очистка оптических элементов плазменная обработка поверхности технология изготовления оптических компонентов
Подпишитесь на журнал, чтобы прочитать полную версию статьи.
Плазменная обработки является мощным инструментом для очистки поверхностей материалов от загрязнений, уменьшения шероховатости поверхности, повышения поверхностной энергии и модификации поверхности. Использование установок плазменной обработки в цепочке технологического оборудования является общемировой тенденций. В статье приведены результаты обработки в плазме высокочастотного газового разряда в установке плазменной обработки MPC RF‑12 стеклянных подложек, используемых в изделиях фотоники. Исследовано влияние параметров и режимов плазменной обработки, а именно мощности и времени, на качество обработки, определяемое углом смачивания. Показано, что в некоторых случаях можно достичь сходных результатов при разном соотношении параметров плазменной обработки.
Теги: cleaning of optical elements low-temperature pulsed plasma plasma surface treatment technology for manufacturing optical components низкотемпературная импульсная плазма очистка оптических элементов плазменная обработка поверхности технология изготовления оптических компонентов
Подпишитесь на журнал, чтобы прочитать полную версию статьи.
Отзывы читателей
