eng
Просмотры: 365
04.07.2025
Руководитель Троицкого обособленного подразделения ФИАН, вице-президент Международной комиссии по оптике Андрей Наумов рассказал, что "помимо реинжиниринга отдельных узлов установки, осуществлена их переработка с учетом современных технологий".
Специалисты Физического института имени П. Н. Лебедева (ФИАН) создали на основе переставшего производиться после распада Советского Союза электронного нанолитографа установку для получения отечественных компонентов рентгеновской и дифракционной оптики. Об этом сообщил ТАСС на полях Открытой недели науки БРИКС+ руководитель Троицкого обособленного подразделения ФИАН, вице-президент Международной комиссии по оптике (ICO) член-корреспондент РАН Андрей Наумов.
Проект реализуется в рамках совместной государственно-частной лаборатории Троицкого подразделения ФИАН. Результаты проделанной учеными работы опубликованы в журнале "Фотоника" (Photonics Russia).
"В качестве базы для установки мы взяли электронный нанолитограф ZBA, разработанный в 1980-1990 годах консорциумом стран Совета экономической взаимопомощи (СЭВ). В СССР, странах СЭВ и на постсоветском пространстве работали несколько сотен таких установок и значительная часть всей позднесоветской и постсоветской электроники изготавливалась с использованием этих машин, которые после распада Советского Союза в силу политических причин перестали производиться. Помимо реинжиниринга отдельных узлов установки, осуществлена их переработка с учетом современных технологий", - сказал Наумов ТАСС.
Среди компонентов электроники, которые российские ученые уже получают с помощью установки, - элементы спектрометров и компоненты, применяемые при изготовлении дифракционных оптических элементов и фазовых решеток для систем машинного зрения и микроскопии.
"Совсем недавно были изготовлены специально рассчитанные дифракционные решетки скользящего падения с переменным периодом, использование которых принципиально для развития рентгеновской оптики. Мы также получили дифракционные решетки высокого качества для спектрометров. Реализована возможность печати на больших пластинах вплоть до размеров 150 на 150 мм", - уточнил представитель научного центра.
Метод электронно-лучевой литографии предполагает использование пучка электронов для структурирования поверхности специального полимерного материала (резиста). Этот подход позволяет, в частности, производить уникальные наноструктуры (с технологическим стандартом до 200 нм и менее) для научных исследований и реального сектора экономики.
"Нам как академическому институту чрезвычайно важно, что уже сегодня мы интегрировали работающий нанолитограф в действующие и новые научные проекты. Это обеспечило изготовление полезных устройств, которые нужны прямо сейчас", - заключил член-корреспондент РАН.
Нанометры для развития технологий
Комментируя перспективы распространения чипов с ультрасовременной технологической нормой в единицы нанометров, ученый отметил, что производство большинства электронных устройств сегодня по-прежнему требует использования компонентов предыдущих поколений, которые некоторые могут назвать устаревшими.
"На самом деле они не устарели. Это просто другой сегмент. Дифракционные элементы, которые мы получаем на нашем литографе, например, используются в голографии, системах дополненной реальности, оптических пинцетах, микроскопии, интегральной оптике, наконец, при создании масок для современных фотолитографических машин. Изготовляемые дифракционные компоненты помогают создавать заранее спроектированные световые поля, которые невозможно создать с помощью традиционных линз и зеркал", - отметил он.
Проект реализуется в рамках совместной государственно-частной лаборатории Троицкого подразделения ФИАН. Результаты проделанной учеными работы опубликованы в журнале "Фотоника" (Photonics Russia).
"В качестве базы для установки мы взяли электронный нанолитограф ZBA, разработанный в 1980-1990 годах консорциумом стран Совета экономической взаимопомощи (СЭВ). В СССР, странах СЭВ и на постсоветском пространстве работали несколько сотен таких установок и значительная часть всей позднесоветской и постсоветской электроники изготавливалась с использованием этих машин, которые после распада Советского Союза в силу политических причин перестали производиться. Помимо реинжиниринга отдельных узлов установки, осуществлена их переработка с учетом современных технологий", - сказал Наумов ТАСС.
Среди компонентов электроники, которые российские ученые уже получают с помощью установки, - элементы спектрометров и компоненты, применяемые при изготовлении дифракционных оптических элементов и фазовых решеток для систем машинного зрения и микроскопии.
"Совсем недавно были изготовлены специально рассчитанные дифракционные решетки скользящего падения с переменным периодом, использование которых принципиально для развития рентгеновской оптики. Мы также получили дифракционные решетки высокого качества для спектрометров. Реализована возможность печати на больших пластинах вплоть до размеров 150 на 150 мм", - уточнил представитель научного центра.
Метод электронно-лучевой литографии предполагает использование пучка электронов для структурирования поверхности специального полимерного материала (резиста). Этот подход позволяет, в частности, производить уникальные наноструктуры (с технологическим стандартом до 200 нм и менее) для научных исследований и реального сектора экономики.
"Нам как академическому институту чрезвычайно важно, что уже сегодня мы интегрировали работающий нанолитограф в действующие и новые научные проекты. Это обеспечило изготовление полезных устройств, которые нужны прямо сейчас", - заключил член-корреспондент РАН.
Нанометры для развития технологий
Комментируя перспективы распространения чипов с ультрасовременной технологической нормой в единицы нанометров, ученый отметил, что производство большинства электронных устройств сегодня по-прежнему требует использования компонентов предыдущих поколений, которые некоторые могут назвать устаревшими.
"На самом деле они не устарели. Это просто другой сегмент. Дифракционные элементы, которые мы получаем на нашем литографе, например, используются в голографии, системах дополненной реальности, оптических пинцетах, микроскопии, интегральной оптике, наконец, при создании масок для современных фотолитографических машин. Изготовляемые дифракционные компоненты помогают создавать заранее спроектированные световые поля, которые невозможно создать с помощью традиционных линз и зеркал", - отметил он.
Комментарии читателей
